ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. «Приборостроение». 2012
15
Формула (16) вырождается в следующую:
1 2
эт.отр контр
1
.
n
W W W W
n
−
− =
−
(17)
К качеству эталонной поверхности оптического клина должны
быть предъявлены высокие требования. Это требование справедливо
и для классической схемы интерферометра Физо, оно сохраняется и
для рассматриваемой схемы интерферометра Н2000. Но в случае ин-
терферометра Н2000 необходимо учитывать еще один источник по-
грешности.
После отражения от контролируемой плоской поверхности каж-
дый луч рабочего пучка излучения проходит через оптический клин
уже не точно в обратном направлении. Поэтому при компоновке схе-
мы оптического контроля необходимо, чтобы линейное смещение в
плоскости клина не превышало эквивалентного размера разрешения
элемента матричного фотоприемника интерферометра, масштабиро-
ванного на плоскость установки клина. Это достигается подбором
соотношения между фокусным расстоянием сферического зеркала,
расстоянием между оптическим клином и контролируемой поверхно-
стью и углом между осями ортогонально поляризованных рабочих
пучков.
Таким образом, контроль пространственных неоднородностей
поверхностей крупногабаритных высокоточных оптических деталей
основан на анализе пространственного спектра неоднородностей в
широком диапазоне значений их периода. Этот диапазон изменяется
от единиц нанометров и до значений периода неоднородностей, со-
измеримых с размерами апертуры контролируемых поверхностей.
Реализация такого контроля в условиях действующего производства
связана с использованием метода и аппаратуры динамической ин-
терферометрии при тщательном обосновании возможности примене-
ния конкретных схем оптической аппаратуры для обеспечения требу-
емой погрешности измерения.
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
1. A b d u l k a d y r o v M. A., B e l o u s o v S. P., I g n a t o v A. N. // Manufac-
turing of primary mirrors from Sitall CO-115M for European projects TTL,
NOA and VST, Proc. of SPIE. – 2009. – Vol. 7390.
2. Неравноплечий ИК-интерферометр Тваймана — Грина для контроля
формы и качества поверхностей крупногабаритных оптических деталей
на стадии шлифования / М.А. Абдулкадыров и др. // Оптический жур-
нал. – 2010. – № 1. – 12 c.
3.
4.