Стр. 11 - Н.В. Барышников, Я.В. Гладышева, Д.Г. Денисов, И.В. Животовский, В.Е. Патрикеев, И.Н. Судариков - Исследование интерференционных методов контроля формы и качества высокоточных поверхностей крупногабаритных оптических деталей
Упрощенная HTML-версия
14
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. «Приборостроение». 2012
Рис. 5. Функционально-оптическая схема контроля качества крупно-
габаритных оптических поверхностей на основе интерферометра
Intellium H2000
Рассматриваемые волновые фронты можно разложить на состав-
ляющие:
W
1
= 2
W
пр
+ 2
W
кл.отр
+ 2
W
з
+ 2
W
кл.пр
+ 2
W
матер
+
W
эт.отр
;
(14)
W
2
= 2
W
пр
+ 2
W
кл.отр
+ 2
W
з
+ 2
W
кл.пр
+ 2
W
матер
+ 2
W
эт.пр
+
W
контр
,
(15)
где
W
пр
— погрешность измерений прибора;
W
кл.отр
,
W
з
,
W
кл.пр
,
W
матер
,
W
эт.отр
,
W
эт.пр
,
W
контр
— ошибки диагональной поверхности оптическо-
го клина на отражение, сферического зеркала, диагональной поверх-
ности клина на проход, материала клина, эталонной поверхности
клина на отражение, эталонной поверхности клина на проход, кон-
тролируемой плоской поверхности соответственно.
Разность между волновыми фронтами (14) и (15) является ошиб-
кой волнового фронта, за счет которой формируется интерференци-
онная картина:
(
W
1
–
W
2
) =
W
эт.отр
– 2
W
эт.пр
–
W
контр
,
(16)
где
W
эт.отр
= 2
n
Δ,
W
эт.пр
= (
n
– 1)Δ; Δ — ошибка поверхности, нм;
n
—
показатель преломления материала оптического клина.
Таким образом, для эталонной поверхности оптического клина
вносимые ошибки на отражение и проход связаны через показатель
преломления материала клина следующим соотношением:
эт.отр
эт.пр
.
1
n
W
W
n
− =
