Стр. 1 - Н.В. Барышников, Я.В. Гладышева, Д.Г. Денисов, И.В. Животовский, В.Е. Патрикеев, И.Н. Судариков - Исследование интерференционных методов контроля формы и качества высокоточных поверхностей крупногабаритных оптических деталей
Упрощенная HTML-версия
4
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. «Приборостроение». 2012
УДК 53.082.531, 681.7.055.33
Н.В. Барышников, Я.В. Гладышева,
Д.Г. Денисов, И.В. Животовский,
В.Е. Патрикеев, И.Н. Судариков
ИССЛЕДОВАНИЕ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫХ
МЕТОДОВ КОНТРОЛЯ ФОРМЫ И КАЧЕСТВА
ВЫСОКОТОЧНЫХ ПОВЕРХНОСТЕЙ
КРУПНОГАБАРИТНЫХ ОПТИЧЕСКИХ
ДЕТАЛЕЙ
Рассмотрены методы контроля формы и качества поверхностей
крупногабаритных оптических деталей. Приведена современная
методика измерения параметров неоднородностей профиля оп-
тических поверхностей различных периодов пространственных
частот на основании расчета функции спектральной плотности
мощности PSD(v
x
, v
y
). Рассмотрены требования, предъявляемые к
качеству оптических поверхностей высокоточных деталей в со-
ответствии с данной методикой. Проведен анализ существующе-
го интерферометрического оборудования, технические характе-
ристики которого позволяют проводить измерения в выделенных
спектральных диапазонах с необходимой погрешностью. Рас-
смотрена возможность использования интерферометров
NanoCam Dynamic Profiler (4D Technology) и Intellium H2000
(ESDI) для контроля крупногабаритных оптических деталей.
E-mail:
,
,
,
Ключевые слова:
интерферометр, метрология, оптическая поверх-
ность, крупногабаритная оптика, шероховатость, волновой фронт,
спектральная плотность мощности.
В настоящее время интерферометрические методы контроля оп-
тических поверхностей широко используются на всех технологиче-
ских стадиях их изготовления: начиная с этапов грубого шлифования
и завершая этапами высокоточной доводки [1, 2]. В применяемой
аппаратуре реализованы различные схемы интерферометрических
измерений, обеспечивающие высокоточный контроль профиля по-
верхностей широкой номенклатуры оптических деталей с погрешно-
стью, достигающей сотых долей длины волны.
Вместе с тем ужесточение требований к профилю оптических
поверхностей современных высокоточных оптических и оптико-
электронных систем обусловливает дальнейшее развитие методов
интерферометрического контроля. Прежде всего это относится
к обоснованию критериев оценки качества оптики крупногабарит-
ных телескопов или активных элементов перспективных лазерных
сред.
