С.Б. Одиноков, Г.Р. Сагателян, А.Б. Соломашенко, Е.А. Дроздова
10
ционной решетки позволяет утверждать, что для достижения макси-
мальной глубины травления оптического стекла единственным опре-
деляющим параметром является селективность его травления относи-
тельно материала маски. ПХТ оптического стекла следует проводить
на наиболее рациональном (оптимальном) режиме. Оптимальным яв-
ляется тот режим, который обеспечивает максимум селективности
травления. При этом под селективностью травления понимают отно-
шение скоростей травления стекла и материала маски.
Для определения оптимального режима ПХТ провели серию экс-
периментов с использованием в качестве материала маски оксида
железа. Образцы для этих исследований высверливали из готовых
ФШ, применяемых в производстве ИМ. Маска для ПХТ соответство-
вала непрозрачным участкам ФШ.
Исследовали влияние соотношения расходов плазмообразующего
(аргон) и химически активного (фреон) газов на ряд выходных пара-
метров ПХТ. Результаты экспериментов представлены в виде зави-
симостей на рис. 8. Эти зависимости получены при фиксации прочих
условий процесса (мощности на антенне и столике, ток подмагничи-
вания, расход гелия, скорость турбомолекулярного насоса) на тех же
Рис. 7.
Зависимости глубины канавок
H
дифракционных решеток от про-
должительности
t
ПХТ:
1
— после ПХТ;
2
— после кислотного травления, следующего за ПХТ
