Количественный подход к прогнозированию светостойкости полимерных материалов - page 4

В.А. Кутыркин
4
Рис. 1.
Спектральные условия облучения:
Xe
J
– ксеноновая лампа;
J
э
– условия эксплуатации
В качестве модельной зависимости квантового выхода процесса
фоторазрушения от длины волны действующего света используется
зависимость
( )
 
, приведенная в табл. 1 и показанная на рис. 2.
Предполагается, что после длины волны 500 нм квантовый выход от-
сутствует (нулевой).
Рис. 2.
Квантовые выходы: модельный
(сплошная линия)
и рассчитанный
*
(маркеры) согласно выбранным
условиям испытаний – набору стандартных фильтров-стекол
1,2,3 5,6,7,8,9,10,11,12
Powered by FlippingBook