2
ISSN 2305-5626. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана: электронное издание. 2013
метод переналожения пробного стекла [1]. Диаметр пробного стекла
не может превышать 220 мм, поэтому в большинстве случаев проб-
ное стекло существенно меньше диаметра контролируемой поверх-
ности. В таких случаях поверхность проверяют по частям, что доста-
точно трудоемко. Кроме того, увеличивается погрешность контроля.
Для облегчения контроля применяют интерферометр ЮС-170, кото-
рый предназначен для выпуклых сферических поверхностей с радиу-
сами кривизны свыше 425 мм и диаметрами до 700 мм. Конструкция
данного интерферометра такова, что контролируемую деталь можно
не снимать с планшайбы станка. Это позволяет после каждого цикла
контроля корректировать форму измеряемой поверхности. Само
пробное стекло установлено в специальную оправу, которая опирает-
ся на контролируемую поверхность и снабжена механизмом для его
юстировки. В процессе контроля пробное стекло перемещают по
контролируемой поверхности, причем каждый раз регулируют его
положение с целью получения нужной ширины и направления полос
на интерференционной картине. Эта операция может привести к по-
вреждению контролируемой поверхности.
С целью обеспечения промышленности бесконтактным сред-
ством измерения формы выпуклых сферических поверхностей боль-
шого диаметра авторами данной статьи предлагается принципиально
новая оптическая система интерферометра, схема которого с ходом
лучей представлена на рис. 1.
Принцип работы интерферометра следующий. Монохроматиче-
ский световой пучок, выходящий из He—Ne лазера
1
(длина волны
λ
= 0,6328 мкм), расширяется коллимирующей системой
2
. Внутри
коллимирующей системы происходит фокусировка излучения: обра-
зуется светящаяся точка
А
, которая является точечным источником
интерферометра. Далее излучение отражается от плоского зеркала
3
,
проходит через наклонные полупрозрачные пластины
4
и
5
и фоку-
сируется объективом
6
.
Объектив
6
создает гомоцентрический пучок с вершиной в точке
А'
. Этот пучок направляется к эталон-компенсатору
7
. Центр
C
э
кри-
визны поверхности Э эталон-компенсатора совмещен с точкой
А'
, по-
этому лучи падают на поверхность Э по нормалям. Поверхность Э
эталон-компенсатора является эталоной, а отраженные от нее лучи
формируют эталонный волновой фронт. Прошедшие через поверх-
ность Э лучи преломляются на второй (компенсирующей) поверхно-
сти эталон-компенсатора и направляются к сферическому зеркалу
8
.
Крупногабаритное вогнутое сферическое зеркало
8
фокусирует
световой пучок в центр кривизны контролируемой поверхности К
детали
9
, обеспечивая нормальное падение лучей на эту поверхность.
Сферический волновой фронт, образованный зеркалом
8
сов-
местно с эталон-компенсатором
7
(эту систему будем называть фоку-
сирующим объективом измерительной ветви интерферометра), пред-
ставляет собой виртуальное пробное стекло, которое накладывается на