9 / 14
Проблемы формирования толстых слоев олова методом ионного распыления…
Инженерный журнал: наука и инновации
# 1·2018 9
Осаждение покрытия с учетом особенностей технологическо-
го процесса.
Так как уменьшение теплового воздействия за счет реа-
лизации системы охлаждения подложки на используемой установке
невозможно, уменьшение теплового потока обеспечивалось за счет
вращения подложек, которое также необходимо для группового про-
цесса, что важно на производстве. Осаждение на вращающуюся под-
ложку происходило в течение 5 мин с параметрами, указанными в
табл. 2. Скорость вращения составила 6 об/мин. Изображения образ-
цов представлены на рис. 3.
а
б
Рис. 3.
Изображение оловянной пленки, осажденной на подложки AlN с исполь-
зованием вращения:
а
— полированный AlN;
б
— шлифованный AlN
Осаждение олова на подложки из материала с низкой теплопро-
водностью (теллурида висмута) также дало положительный резуль-
тат (рис. 4). Осаждение осуществляли в течение одной минуты без
вращения подложкодержателя. Толщина пленки составила ~9 мкм.
Цвет пленки – белоснежный. Капель и короблений не наблюдается.
Рис. 4.
Изображение оловянной пленки,
осажденной на теллурид висмута