9
Сильнополевая инжекционная модификация наноразмерных пленок
тельной (
2
) и отрицательной (
3
) полярности. Заряд, инжектированный при
модификации, составлял около 0,1 мКл/см
2
.
Кривые токов ТСД, изображенные на рис. 4, имеют два характерных
участка возрастания тока, первый из которых заканчивается при тем-
пературе около 200 °C. Аналогичные результаты по стеканию отрица-
тельного заряда дали измерения релаксации отрицательного заряда при
температурах 100 и 200 °C, причем на релаксацию отрицательного за-
ряда в изотермических условиях замыкание электродов не оказывало
значительного влияния.
Таким образом, при туннельной инжекции электронов в сильных
электрических полях отрицательный заряд, захватывающийся в пленке
ФСС, можно разделить на две компоненты, одна из которых стекает при
отжиге до 200 °C, а другая — термостабильная часть заряда, которая на-
чинает релаксировать лишь при температурах выше 230 °C. На наличие
двух компонент отрицательного заряда указывает и присутствие в плен-
ке ФСС электронных ловушек с двумя сечениями захвата [19]. Термо-
стабильная часть отрицательного заряда в пленке ФСС наблюдалась
также при ультрафиолетовом облучении структур, проводимом в [18].
Проведенные оценочные расчеты постоянной времени релаксации
отрицательного заряда с высокой термополевой стабильностью в диа-
пазоне рабочих температур МДП-приборов, проведенные с учетом кри-
вых токов ТСД и результатов релаксации C—V характеристик в изо-
термических условиях, дали значение более 4·10
8
с. Следовательно, для
получения МДП-приборов с высокой температурной стабильностью
после коррекции зарядового состояния структур их необходимо отжи-
Рис. 4.
Температурные зависимости токов ТСД для
структур, не подвергавшихся модификации (
1
), и по-
сле модификации импульсом тока положительной (
2
)
и отрицательной (
3
) полярности
A
