ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. «Приборостроение». 2012
51
Основой НТЭМП является ЧЭ, структура которого приведена на
рис. 1.
а
б
в
Рис. 1. Чувствительный элемент НТЭМП:
а
—
T
=
T
0
;
б
—
T
>
T
0
;
в
—
T
<
T
0
ЧЭ НТЭМП расположен на подложке
1
, выполненной из кремния
или сапфира, и состоит из микробиметаллической пластинки
3
, пре-
образующей падающее на нее длинноволновое оптическое ИК-излу-
чение (
h
) в теплоту
Т
. Биметаллический преобразователь содержит
два слоя
6
и
7
, имеющих технологические отверстия
8
[2]. Слой
6
выполнен из алюминия, а слой
7
из вольфрама. На поверхность пла-
стинки для повышения эффективности регистрации теплового излу-
чения нанесен слой висмута с подслоем из титаната стронция. Биме-
таллическая пластинка закреплена на подложке с помощью опоры
4
в
центре рамочного катода, состоящего из проводящей площадки
2
, на
верхней поверхности которой расположен вискер
5
.
В состав матрицы НТЭМП входят ЧЭ с электронными ключами
опроса, строчный и столбцовый мультиплексоры, вакуумированный
корпус с возможностью термостабилизации.
Работа данного ЧЭ при регистрации теплового излучения заклю-
чается в следующем [2]. На рис. 1,
б
приведена схема положения
чувствительного элемента площадки преобразователя НТЭМП при
T
>
T
0
, где
Т
0
— температура пластины до падения на нее оптическо-
го излучения. На рис. 1,
в
показано положение чувствительного эле-
мента площадки преобразователя НТЭМП при
T
<
T
0
. Изменение за-
зора приводит к изменению напряженности электрического поля и
соответственно к изменению тока АЭЭ.
Тепловое излучение, попадая на чувствительную микробиметал-
лическую площадку, нагревает ее, последняя под действием тепловой
энергии прогибается, изменяя зазор между нижней ее стороной и ка-
тодом.