Previous Page  11 / 17 Next Page
Information
Show Menu
Previous Page 11 / 17 Next Page
Page Background

Сравнительный анализ формирования кумулятивных струй…

Инженерный журнал: наука и инновации

# 1·2018 11

Рис. 5.

Формирование кумулятивной струи зарядом с облицовкой

в форме усеченной сферы дегрессивной толщины 2,4 мм/1,0 мм

Высота облицовки

h

s

= 1,6

R

s

, толщина в вершине δ

s

1

= 2,4 мм,

в экваториальной плоскости δ

s

2

= 1,0 мм (по разнотолщинности дан-

ная облицовка соответствовала полусферической, формировавшей

кумулятивную струю с примерно такой же, как у конуса, скоростью

головной части).

На стадии обжатия облицовки отчетливо прослеживается реали-

зация принципа имплозии [21] в форме схождения материала ее ку-

польной части к центру (моменты времени

t

= 22 мкс и

t

= 24 мкс),

сопровождающегося резким ускорением внутреннего слоя этой части

облицовки. В результате материал этого слоя «выбрасывается» вперед

(

t

= 26 мкс), образуя кумулятивную струю. Из сравнения рис. 5 и 4 вид-

но, что скорость головной части формируемой облицовкой в форме

усеченной сферы струи остается практически такой же, как и для по-

лусферической облицовки той же разнотолщинности. Совпадают и