2 / 10
Е.В. Панфилова, А.А. Доброносова
2
Инженерный журнал: наука и инновации
# 8·2017
опаловой пленки толщиной в несколько слоев сфер кремнезема SiO
2
средним диаметром 280 нм и слоя золота Au с варьируемой толщи-
ной до 180 нм (рис. 1). Слои хрома и золота были нанесены методом
магнетронного распыления в вакууме с помощью системы для нане-
сения пленок в вакууме SPI supplies научно-образовательного центра
«Функциональные микро/наносистемы» МГТУ им. Н.Э. Баумана и
установки вакуумного нанесения тонких пленок кафедры «Элек-
тронные технологии в машиностроении» названного университета.
Опаловые пленки наносили, используя метод вертикального вытяги-
вания кремнезема из коллоидного раствора. Последний метод пред-
ставляет собой вытягивание подложки из раствора, в процессе кото-
рого на вертикально расположенной подложке формируется тонкая
пленка со структурой опаловой матрицы, формирование которой
происходит за счет движения сфер в сторону мениска жидкости.
Рис. 1.
Строение исследуемых образцов:
1
— подложка;
2
— опаловая пленка SiO
2
;
3
—Au;
4
—Cr
Результаты исследования образцов и обсуждение результа-
тов.
Оптические свойства опаловой пленки исследованы на спектро-
фотометре Epsilon. Исследование поверхности полученных образцов
и контроль толщины пленки золота на образце-свидетеле осуществ-
лены на сканирующем зондовом микроскопе Solver Next методом
атомно-силовой микроскопии (АСМ) в полуконтактном режиме. Ис-
следование спектра комбинационного рассеяния было выполнено на
рамановском спектрометре HR 800 в Институте проблем лазерных и
информационных технологий РАН и раман-спектрометре Renishaw
InVia Basis в ООО «Новые плазменные технологии».
Выполненное на опаловой пленке исследование спектра отраже-
ния показало, что сформированная пленка имеет структуру фотонно-
го кристалла. На изображении спектра отражения
R
опаловой пленки
в области
650
нм четко определяется фотонная запрещенная зона
(рис. 2).
АСМ-сканирование образца подтвердило наличие регулярной
структуры (рис. 3).