Анализ механизма формирования фотонных запрещенных зон в гетероструктурах, получаемых при осаждении тонких пленок на поверхность коллоидных пленок
Опубликовано: 22.02.2022
Авторы: Панфилова Е.В., Медведева О.М., Минько
Опубликовано в выпуске: #2(122)/2022
DOI: 10.18698/2308-6033-2022-2-2157
Раздел: Металлургия и материаловедение | Рубрика: Нанотехнологии и наноматериалы