Рис. 2. Зависимость электросопротивления от силы тока для Cu-проволоки диа-
метром 0,1 мм, длиной 50 мм:
1
—
первичная;
2
и
3
—
повторные обработки током соответственно
где
с
—
скорость света;
pF
—
импульс фермиевских электронов;
2
D
—
ширина и
d
—
полутолщина пластины соответственно;
l
—
длина сво-
бодного пробега;
e
—
заряд электрона.
При
I > I
пр
и
D > l > d
:
U I
1
/
2
.
В нашем случае нелинейность
ВАХ имела более высокую степень по току, а значения тока были
меньше
I
пр
.
Несмотря на это вклад магнитного поля в электропро-
водность является неоспоримым. Электроны, смещаясь на расстояние
порядка длины свободного пробега вдоль электрического поля тока,
совершают вращательное движение под действием магнитного поля
тока. Радиус кривизны электронной траектории в магнитном поле то-
ка при неизменной скорости дрейфа уменьшается к периферийной
части проводника.
Используя зависимости
R
(
I
)
,
можно вычислить энергию, запасен-
ную в дефектах структуры и выделяющуюся при обработке электриче-
ским током. В приближении теплоты Джоуля – Ленца данная мощность
может быть вычислена как
h
P
i
=
1
I
max
−
I
min
I
max
Z
I
min
R
(
I
)
I
2
dI.
(2)
Графически вычисления, проводимые по формуле (2), эквивалент-
ны нахождению площади фигуры, ограниченной кривыми
R
(
I
)
на
рис. 1 и 2.
ISSN 1812-3368. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Естественные науки”. 2012
59