Технология изготовления дифракционных оптических элементов методом плазмохимического травления для формирования точечных эталонных изображений
Авторы: Одиноков С.Б., Сагателян Г.Р., Соломашенко А.Б., Дроздова Е.А.
Опубликовано в выпуске: #9(21)/2013
DOI: 10.18698/2308-6033-2013-9-922
Раздел: Приборостроение | Рубрика: Оптотехника
Рассмотрен вариант конструкции дифракционных оптических элементов (ДОЭ), работающих на пропускание в составе оптических систем во втором порядке дифракции. Обоснована необходимость применения фазовых ДОЭ. Показана возможность применения фазовых ДОЭ, имеющих двухуровневую структуру при прямоугольном микропрофиле рабочей поверхности. Подтверждены возможности изготовления ДОЭ и голограммных оптических элементов ( ГОЭ) с применением установки плазмохимического травления (ПХТ) Caroline 15 PE. Определены оптимальные режимы ПХТ для ДОЭ из щелочного стекла. Установлено, что максимальная глубина рельефа ДОЭ и ГОЭ соответствует максимальной селективности травления стекла относительно материала маски. При толщине хромовой маски 100 нм достигается глубина микрорельефа до 1,4 мкм, что обеспечивает повышение дифракционной эффективности ДОЭ и ГОЭ. Относительная интенсивность света во втором порядке дифракции может составлять 30 %, что позволит создавать новые изделия микрооптики.
Литература
[1] Колосов М.П., Гебгарт А.Я., Карелин А.Ю. О роли положения зрачков в нерасстраиваемых оптических системах угломеров с каналом геометрического эталона. Оптический журнал, 2012, т. 79, № 2, с. 48-53
[2] Казанский Н.Л., Колпаков В.А., Колпаков А.И. Исследование особенностей процесса анизотропного травления диоксида кремния в плазме газового разряда высоковольтного типа. Микроэлектроника, 2004, т. 33, № 3, с. 209-224
[3] Казанский Н.Л., Колпаков В.А. Формирование оптического микрорельефа во внекатодной плазме высоковольтного газового разряда. Москва, Радио и связь, 2009, с. 117-169
[4] Одиноков С.Б., Сагателян Г.Р. Технология изготовления дифракционных и голограммных оптических элементов с функциональным микрорельефом поверхности методом плазмохимического травления. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. Приборостроение, 2010, № 2, с. 92-104
[5] Малышев В.И. О методах использования дифракционных решеток-эше-летт в космической ИК-спектрометрии (обзор литературы и рекомендации). Москва, Изд-во ФИАН, 1993, 52 с.
[6] Ландсберг Г.С. Элементарный учебник физики. Т. 3: Колебания и волны. Оптика. Атомная и ядерная физика. Москва, Наука, 1985, 656 c.
[7] Балясников Н.М., Лукашевич Я.К., Варфоломеев А.А., Стрельников Ю.П. Способ изготовления вогнутых дифракционных решеток со ступенчатым профилем штрихов. Пат. 1799161 Российская Федерация, 10.05.1995
[8] Рожков О.В., Тимашова Л.Н. Воспроизведение цветокодированной фазооптической записи в системах отображения информации. Труды МВТУ им. Н.Э. Баумана, 1979, № 309, с. 21-36
[9] Дудин С.В. Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур. Физическая инженерия поверхности, 2009, т. 7, № 3, с. 171-194
[10] Берлин Е.В., Двинин С.А., Морозовский Н.И., Сейдман Л.А. Реактивное ионно-плазменное травление и осаждение: установка Каролина 15. Электроника: Наука, Технология, Бизнес, 2005, № 8, с. 78-80
[11] Берлин Е.В., Сейдман Л.А. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии. Москва, Техносфера, 2010, 544 с.