Метод контроля качества выпуклого гиперболического зеркала радиотелескопа…
3
Для решения этой проблемы можно применять так называемую
схему ортогональных лучей [6], согласно которой контролируемую
деталь освещают пучком параллельных лучей, ориентированных
перпендикулярно оси симметрии КП (рис. 3). В структуре отражен-
ного от КП пучка содержится информацию о форме КП. Для анали-
за отраженного пучка могут быть использованы различные методы
[7–9], например интерференционный [9, 10] или метод Гартма-
на [11].
Схема ортогональных лучей применима для контроля выпуклых
асферических поверхностей большого диаметра. Однако область ее
применения ограничена величиной апертурного угла КП. Как видно
на рис. 3, чем больше угол наклона нормали φ к крайней точке КП,
тем больший размер анализатора волнового фронта требуется.
Для контроля вторичного зеркала телескопа «Миллиметрон»
схема ортогональных лучей нуждается в некоторой модификации.
Метод контроля.
Схема предлагаемого метода контроля показа-
на на рис. 4. Узкий пучок лучей, формируемый He:Ne-лазером, по-
Рис. 2.
Схема Хиндла для контроля
выпуклых гиперболических поверх-
ностей
Рис. 3.
Схема ортогональных лучей
Рис. 4.
Схема контроля гиперболического зеркала телескопа «Миллиметрон»
