3 / 18
Электрическая противокумулятивная защита объектов
Инженерный журнал: наука и инновации
# 1
2016 3
Рис. 1.
Схема взаимодействия кумулятивного заряда с элек-
тродинамической защитой:
а —
до начала взаимодействия;
б
— во время движения КС;
1
— им-
пульсный источник энергии;
2
— элемент ЭДЗ;
3
— область
проводящей плазмы;
4
— КС;
5
— основная преграда
но и прилегающая к ней область
3
образующегося в диэлектрике от-
верстия, заполненная проводящей плазмой. При достаточной интен-
сивности токового воздействия бронепробитие основной преграды
5
может снижаться в несколько раз по отношению к собственному
пробитию КЗ обычной гомогенной преграды. Так, по данным отече-
ственных исследователей, на КЗ диаметром 50…100 мм при энергии
емкостного накопителя примерно 100 кДж можно добиться умень-
шения глубины пробития основной броневой преграды в 2,5–4 раза,
что соответствует «сбитию» 60…80 % общей длины КС [12]. Это со-
гласуется с данными зарубежных источников информации и соответ-
ствует уровню эффективности действия традиционно используемых
динамических защит (реактивная броня ЕRA) с зарядом взрывчатого
вещества [13]. По данным зарубежных и отечественных публикаций,
можно выделить две основные конструктивные схемы элементов
ЭДЗ (рис. 2). Общим для них является наличие токопроводящих
электродов
2
и
4
, размещаемых перед защищаемой преградой
1
на
некотором расстоянии друг от друга с образованием так называемого
межэлектродного промежутка, заполненного диэлектриком
3
. Чаще
всего в роли последнего выступает стеклотекстолит, иногда — воз-
дух. Элемент ЭДЗ (рис. 2,
а
) представляет собой двухэлектродную
систему, размещаемую перед защищаемой преградой (
h
≠ 0) или
непосредственно на ней (
h
= 0); эта система реализует электродина-
мическое воздействие с однонаправленным протеканием электриче-
ского тока
I
по КС. Возможным вариантом является исполнение бое-
вого элемента ЭДЗ в виде трехэлектродной системы (рис. 2,
б
), когда
I
I