Проблемы и тенденции в проектировании светосильного репродукционного объектива…
11
ной первой группы в двухгруп-
повой структурной схеме. Оп-
тическая сила эквивалентной
группы может принимать как
отрицательные, так и положи-
тельные значения.
Схемы объективов для диа-
пазона спектра 430…660 нм
содержат достаточно большое
число (от 7 до 15) одиночных и
склеенных линз (из двух или
трех одиночных) из оптических
пластмасс и оптического стек-
ла, включая марки с экстре-
мально высокими значениями
показателя преломления и ко-
эффициента дисперсии. Отме-
чается тенденция применения в схемных решениях современной
элементной базы в виде асферических линз (АЛ) с асферическими
поверхностями (АП) высших порядков, линз с дифракционными по-
верхностями (ДЛ) и гибридных линз. Наиболее часто АП применя-
ют в менисковых отрицательных линзах (линзе) фронтальной части
первой группы широкоугольных объективов для исправления дис-
торсии и аберраций широких наклонных пучков; выявляются реше-
ния с асферическими отрицательными менисками, в которых обе
поверхности являются АП высшего порядка. Применяют АП также
с целью коррекции аберраций широкого осевого пучка в объективах
с высокими значениями относительного отверстия. В этом случае
их размещают на положительных линзах вблизи АД или зрачка, а
для коррекции сферической аберрации в широких внеосевых пучках
располагают АЛ за АД. В целях обеспечения технологической осу-
ществимости АП высоких порядков используют линзы из оптиче-
ских пластмасс [14]. Включение в оптические схемы указанных
коррекционных элементов перспективно для решения актуальных
задач миниатюризации репродукционных объективов, повышения
их разрешающей способности, снижения световых потерь и рассе-
янного света. Далее приведены патентные примеры объективов-ана-
логов, в которых применены указанные выше оптические элементы.
Объектив с применением АЛ и улучшенной хроматической
коррекцией
(см. рис. 1) [15]. Объектив имеет следующие оптические
характеристики: заднее фокусное расстояние
f
'
= 34,59 мм; угловое
поле 2ω = 64°; относительное отверстие (1:
K
) = 1:1,45; задний фо-
кальный отрезок
S'
F'
= 37,98 мм; расстояние от первой до последней
Рис. 3.
Схема объектива по патенту
США 7,843,651 [17]:
11, 12, 2 — первая, вторая и третья груп-
пы структурной схемы объектива; 1 —
эквивалентная группа при переходе к
двухгрупповой структурной схеме объек-
тива; АД — апертурная диафрагма;
ПИ — плоскость изображения
