Е.Ю. Локтионов, Ю.С. Протасов, Ю.Ю. Протасов, В.Д. Телех
2
с высокими значениями температур и давлений, достигаемых в зоне
контакта. Увеличение концентрации и температуры частиц приводит
к повышению степени ионизации и увеличению интенсивности вто-
ричного коротковолнового излучения. Применение в качестве мише-
ней тонких пленок позволяет точно дозировать массовый расход
компонентов и регулировать долю сообщенной энергии лазерного
излучения, что крайне важно для точной регулировки параметров ге-
нерируемой плазмы сложного химического и ионизационного соста-
ва. В случае применения многослойных тонких пленок стехиометри-
ческий состав смеси может легко поддерживаться постоянным.
Для исследования динамики пространственно ограниченных ку-
мулятивных оптических разрядов с испаряющейся стенкой предлага-
ется схема воздействия, показанная на рис. 1. В этой схеме луч гре-
ющего излучения
1
с помощью светоделителя
3
разделяется на два
оптических плеча. Светоделитель чувствителен к плоскости поляри-
зации падающего излучения, поворот полуволновой пластинки
2
позволяет изменять соотношение энергий излучения в плечах от 4:1
до 1:1. Далее излучение в каждом из плеч фокусируется кварцевой
линзой
5
(
F
~ 50 мм) в середине зазора между двумя мишенями,
представляющими собой алюминиевые пленки толщиной 200 нм,
нанесенные со стороны зазора методом магнетронного распыления
на стекло толщиной 2 мм. Кроме напыления, могут быть использова-
ны и другие методы осаждения пленок, в том числе гетерогенных [1].
Применение длиннофокусных линз нежелательно из-за более протя-
женной каустики — в этом случае может быть достигнута пороговая
для повреждения подложки плотность мощности излучения.
Рис. 1.
Схема инициирования поликанального оптического разряда:
1
— греющее лазерное излучение;
2
— полуволновая пластинка;
3
— светодели-
тель;
4
— глухое зеркало;
5
— собирающая линза;
6
— тонкопленочная мишень
на подложке
